R.K*入/NA 1,波長 入 2,數(shù)值孔徑NA 3,工藝因子K
最新試題
新的平坦化方法有哪幾個?()
封裝工藝中,銀漿固化的溫度為()。
碳納米管場效應(yīng)晶體管是未來晶體管發(fā)展趨勢之一。
硅烷法制備高純硅的步驟不包括哪一項?()
常壓的硅外延方法有()。
鳥嘴效應(yīng)造成的不良影響有()。
CE定律發(fā)展面臨的問題包括()。
下面哪道工序主要是針對晶圓切割之后在顯微鏡下進(jìn)行晶圓r的外觀檢查,是否有出現(xiàn)廢品?()
影響封裝芯片特性的溫度有()。
濕氧氧化采用的氧化水溫是()。