R.K*入/NA 1,波長 入 2,數(shù)值孔徑NA 3,工藝因子K
最新試題
消除鳥嘴效應的方法有()。
新的平坦化方法有哪幾個?()
碳納米管場效應晶體管是未來晶體管發(fā)展趨勢之一。
濕氧氧化采用的氧化水溫是()。
金屬化中可選用的金屬材料有()。
進行溝槽填充常用的金屬材料是()。
CE定律發(fā)展面臨的問題包括()。
光刻工藝的特點包括()。
如下哪個選項不是半導體器件制備過程中的主要污染物?()
三光檢查主要是檢查芯片粘貼和引線焊接之后有無各種廢品。