1.對下層柵氧化層具有高的選擇比 2.非常好的均勻性和可重復性。 3.高度的各向異性
最新試題
互連工藝中AL的制備可選用()。
光刻工藝的設備核心是()。
新的平坦化方法有哪幾個?()
化學機械拋光液的主要成分不包括的是哪個?()
鳥嘴效應造成的不良影響有()。
芯片粘接的工藝過程包括()。
濕氧氧化采用的氧化水溫是()。
下面哪道工序主要是針對晶圓切割之后在顯微鏡下進行晶圓r的外觀檢查,是否有出現廢品?()
如下哪個選項不是半導體器件制備過程中的主要污染物?()
刻蝕過程中聚合物形成的來源有()。