判斷題在紫外光曝光、X射線曝光、電子束曝光技術中可實現(xiàn)直寫式曝光不需要掩模版的是X射線曝光技術。
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最新試題
MOS器件按比例縮小后對器件特性有什么影響?
題型:問答題
說明MOS器件噪聲的來源、成因及減小方法。
題型:問答題
在圖中,若所有的晶體管都工作在飽和區(qū),畫出Vx從一個大的正值下降時Ix的草圖。
題型:問答題
什么是MOS器件的體效應?
題型:問答題
從天然硅中獲得達到生產(chǎn)半導體器件所需純度的SGS要經(jīng)過()等步驟。
題型:多項選擇題
半導體工藝技術中,器件互連材料通常包括()等。
題型:多項選擇題
MOS場效應管(MOSFET)在20世紀70年代得到了廣泛的接受,從那時起到現(xiàn)在一直是集成電路的主流晶體管。MOSFET有兩類()和()。每種類型可由各自器件的多數(shù)載流子來區(qū)別。
題型:多項選擇題
集成電容主要有幾種結(jié)構?
題型:問答題
版圖設計的基本前提是什么?
題型:問答題
圖a中M1和M2為某CMOS工藝中的兩個NMOS管,M1的W/L=12μm/6μm,M2的W/L=4μm/2μm,其它物理參數(shù)及偏置均相同。圖b中給出了M1的漏極電流Id1隨Vgs的變化曲線,請畫出Id2的大致變化,并說明Id1和Id2有什么不同,并解釋不同的主要原因。
題型:問答題