多項選擇題?LPCVD系統(tǒng)與PECVD系統(tǒng)相比,它們的相同點有()。

A.產(chǎn)量低
B.可淀積Si3N4
C.臺階覆蓋好
D.反應控制


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1.多項選擇題?APCVD系統(tǒng)的缺點有()。?

A.均勻性差
B.易發(fā)生氣相反應
C.臺階覆蓋
D.高溫工藝

2.多項選擇題下列關于LPCVD的描述正確的有()。

A.擴散控制
B.嚴格控制溫度
C.反應控制
D.低溫淀積工藝

3.多項選擇題?影響淀積速率的因素有()。

A.降低δs
B.增加Um
C.減小基座長度L
D.增加溫度

4.多項選擇題?Grove模型建模時,關注的主要運動形式有()。

A.反應運動
B.擴散運動
C.脫吸運動
D.漂移運動

5.多項選擇題?以下關于CVD的描述正確的有()。

A.hg≥ks,淀積速率為擴散控制
B.hg≤ks,淀積速率為反應控制
C.hg≥ks,淀積速率為反應控制
D.hg≤ks,淀積速率為擴散控制