一塊半導(dǎo)體壽命τ=15µs，光照在材料中會(huì)產(chǎn)生非平衡載流子，光照突然停止30µs后，其中非平衡載流子將衰減到原來的（）。

如果雜質(zhì)既有施主的作用又有受主的作用，則這種雜質(zhì)稱為（）。

多晶硅的生產(chǎn)方法主要包含：（）1）冶金法2）硅烷法3）重?fù)焦鑿U料提純法4）西門子改良法5）SiCl4法6）氣液沉淀法7）流化床法

在通常情況下，GaN呈（）型結(jié)構(gòu)。

可用作硅片的研磨材料是（）

在光線作用下，能使物體產(chǎn)生一定方向的電動(dòng)勢(shì)的現(xiàn)象稱（）

只涉及到大約一個(gè)原子大小范圍的晶格缺陷是（）。 

CZ法的主要流程工藝順序正確的是（）

那個(gè)不是影響直拉單晶硅的電阻率均勻性的因素（）

下列是晶體的是（）。