多項(xiàng)選擇題集成電路進(jìn)入納米尺寸時(shí)代后,將面臨以下主要挑戰(zhàn):()。
A.漏電流增大導(dǎo)致總功耗增加
B.柵極氧化膜厚度接近物理極限
C.電路規(guī)模增大導(dǎo)致動(dòng)態(tài)功耗增加
D.配線延遲不能相應(yīng)降低從而影響性能
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去毛飛邊工藝指的是將芯片多余部分進(jìn)行有效的切除。
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