判斷題LPCVD緊隨PECVD的發(fā)展而發(fā)展。由660℃降為450℃,采用增強的等離子體,增加淀積能量,即低壓和低溫。
您可能感興趣的試卷
最新試題
硅烷法制備高純硅的步驟不包括哪一項?()
題型:單項選擇題
刻蝕工藝可以和以下哪個工藝結(jié)合來實現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移?()
題型:單項選擇題
多層陶瓷基板多層化的方法包括()。
題型:多項選擇題
濕氧氧化采用的氧化水溫是()。
題型:單項選擇題
摻雜后,退火的目的是()。
題型:多項選擇題
下面哪道工序主要是針對晶圓切割之后在顯微鏡下進行晶圓r的外觀檢查,是否有出現(xiàn)廢品?()
題型:單項選擇題
化學(xué)機械拋光液的主要成分不包括的是哪個?()
題型:單項選擇題
CE定律發(fā)展面臨的問題包括()。
題型:多項選擇題
硅暴露在空氣中,在室溫下即可產(chǎn)生二氧化硅層,厚度約為()。
題型:單項選擇題
進行溝槽填充常用的金屬材料是()。
題型:單項選擇題