薄柵管ESD保護結(jié)構(gòu)的ESD保護能力通常為多少？（）

集成電路的制造工藝，需要采用隔離技術(shù)，常見的隔離方法有（）。

電源線和地線一般用什么圖層來畫？（）

版圖繪制時一般用哪個圖層來實現(xiàn)器件連接？（）

光刻時，將掩模版直接放在晶圓表面，與表面的光刻膠接觸，該種光刻方式稱為（）。

以下工藝中，方塊電阻是一個重要的參數(shù)，一般用于衡量（）工藝中雜質(zhì)情況。

在組合電路中，NMOS管串聯(lián)實現(xiàn)的是什么邏輯？（）

未進行摻雜的二氧化硅薄膜，通常簡寫為（）。

我們利用LOCOS技術(shù)制作MOS中的（）。

光刻時，必須將硅片與掩模版進行對準，不同的掩模版之間也要對準，可以采用仔細觀察的方法。