氧化層中摻雜了硼雜質(zhì)，一般稱為（）。

為了實(shí)現(xiàn)全局平坦化，在集成電路中，經(jīng)常采用（）工藝。

一個(gè)四輸入的或非門，一般采用幾個(gè)pitch？（）

如果制作柵氧結(jié)構(gòu)，一般采用的方法是（）。

展現(xiàn)電路的邏輯電路連接的是哪種視圖模式?（）

未進(jìn)行摻雜的二氧化硅薄膜，通常簡寫為（）。

光刻時(shí)，將掩模版直接放在晶圓表面，與表面的光刻膠接觸，該種光刻方式稱為（）。

MOS晶體管的源區(qū)、漏區(qū)及源、漏之間的溝道區(qū)域通常稱為（）。

如果想在電路圖模式下編輯符號，可以選擇以下哪個(gè)命令？（）

在制作MOS管時(shí)，采用LOCOS工藝容易出現(xiàn)（）。