判斷題微電子技術(shù)的核心是集成電路,中央處理器是集成電路的標(biāo)志性產(chǎn)品之一。
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IC集成度和性能得以不斷提高的理論基礎(chǔ)是()。
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濕氧氧化采用的氧化水溫是()。
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進(jìn)行溝槽填充常用的金屬材料是()。
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消除鳥(niǎo)嘴效應(yīng)的方法有()。
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下面哪個(gè)選項(xiàng)不是集成電路工藝用化學(xué)氣體質(zhì)量的指標(biāo)?()
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摻雜后,退火的目的是()。
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