填空題選擇性氧化常見的有()和(),其英語縮略語分別為LOCOS和()。
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比較砷化鎵和磷化銦等襯底與硅襯底上的電感等效電路,試分析兩者存在差異的原因。
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MOS器件按比例縮小后對(duì)器件特性有什么影響?
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從設(shè)計(jì)的觀點(diǎn)出發(fā),版圖設(shè)計(jì)規(guī)則應(yīng)包括哪些部分?
題型:問答題
材料根據(jù)流經(jīng)材電流的不同可分為三類()。
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利用2μm×6μm的多晶硅柵極覆蓋在4μm×12μm薄氧化層的正中間構(gòu)成一個(gè)MOS管,已知Cox=5×10-4pF/μm2,估算柵極電容。
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晶體管的名字取自于()和()兩詞。
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什么是MOS器件的體效應(yīng)?
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規(guī)定版圖幾何設(shè)計(jì)規(guī)則的意義是什么?
題型:問答題
說明MOS器件噪聲的來源、成因及減小方法。
題型:問答題
設(shè)計(jì)一個(gè)CMOS差分放大器電路,寫出其對(duì)應(yīng)的SPICE描述語句并作差模電流-電壓特性分析。
題型:問答題