單項(xiàng)選擇題原位雙剪法所用原位剪切儀主要技術(shù)指標(biāo)中示值相對(duì)誤差為()。

A.±1%
B.±2%
C.±3%
D.±4%


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2.單項(xiàng)選擇題原位雙剪法以下哪一部位可以布設(shè)測(cè)點(diǎn)()。

A.門(mén)、窗洞口側(cè)邊100mm范圍內(nèi)
B.門(mén)、窗洞口側(cè)邊110mm范圍內(nèi)
C.門(mén)、窗洞口側(cè)邊120mm范圍內(nèi)
D.門(mén)、窗洞口側(cè)邊130mm

最新試題

鑄造多晶硅中氫的主要作用包括()

題型:多項(xiàng)選擇題

懸浮區(qū)熔的優(yōu)點(diǎn)不包括()

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

載流子的擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生擴(kuò)散電流,漂移運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生()電流。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

直拉法生長(zhǎng)單晶硅拉晶過(guò)程有幾個(gè)主要階段?()

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

對(duì)于同時(shí)存在一種施主雜質(zhì)和一種受主雜質(zhì)的均勻摻雜的非簡(jiǎn)并半導(dǎo)體,在溫度足夠高、ni>>/ND-NA/時(shí),半導(dǎo)體具有()半導(dǎo)體的導(dǎo)電特性。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

與半導(dǎo)體相比較,絕緣體的價(jià)帶電子激發(fā)到導(dǎo)帶所需的能量()

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

只涉及到大約一個(gè)原子大小范圍的晶格缺陷是()。 

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

影響單晶內(nèi)雜質(zhì)數(shù)量及分布的主要因素是()①原材料中雜質(zhì)的種類和含量;②雜質(zhì)的分凝效應(yīng);③雜質(zhì)的蒸發(fā)效應(yīng);④生長(zhǎng)過(guò)程中坩堝或系統(tǒng)內(nèi)雜質(zhì)的沾污;⑤加入雜質(zhì)量;

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

對(duì)于大注入下的直接復(fù)合,非平衡載流子的壽命不再是個(gè)常數(shù),它與()。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

制約鑄造多晶硅材料少子壽命的主要因素不包括()

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題