單項(xiàng)選擇題載流子的擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生擴(kuò)散電流,漂移運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生()電流。

A、漂移
B、隧道
C、擴(kuò)散


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1.單項(xiàng)選擇題把磷化鎵在氮?dú)夥罩型嘶?,?huì)有氮取代部分的磷,這會(huì)在磷化鎵中出現(xiàn)()。

A.改變禁帶寬度;
B.產(chǎn)生復(fù)合中心;
C.產(chǎn)生空穴陷阱;
D.產(chǎn)生等電子陷阱。

5.單項(xiàng)選擇題原子晶體中的原子與原子之間的鍵能隨原子間距的而迅速()

A.減小,減小
B.減小,增大
C.增大,增大
D.增大,減小

最新試題

懸浮區(qū)熔的優(yōu)點(diǎn)不包括()

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下列哪個(gè)不是單晶常用的晶向()

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雜質(zhì)半導(dǎo)體中的載流子輸運(yùn)過(guò)程的散射機(jī)構(gòu)中,當(dāng)溫度升高時(shí),電離雜質(zhì)散射的概率和晶格振動(dòng)聲子的散射概率的變化分別是()

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如在半導(dǎo)體的禁帶中有一個(gè)深雜質(zhì)能級(jí)位于禁帶中央,則它對(duì)電子的俘獲率()空穴的俘獲率。

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鑄造多晶硅中的氧主要來(lái)源不包括()

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在通常情況下,GaN呈()型結(jié)構(gòu)。

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影響單晶內(nèi)雜質(zhì)數(shù)量及分布的主要因素是()①原材料中雜質(zhì)的種類(lèi)和含量;②雜質(zhì)的分凝效應(yīng);③雜質(zhì)的蒸發(fā)效應(yīng);④生長(zhǎng)過(guò)程中坩堝或系統(tǒng)內(nèi)雜質(zhì)的沾污;⑤加入雜質(zhì)量;

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硅片拋光在原理上不可分為()

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PN結(jié)的基本特性是()

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在光線(xiàn)作用下,能使物體產(chǎn)生一定方向的電動(dòng)勢(shì)的現(xiàn)象稱(chēng)()

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