MOS管版圖一般匹配原則有（）。

顯影后，被曝光區(qū)域的光刻膠被去除，該種光刻膠稱為（）。

為了實現(xiàn)全局平坦化，在集成電路中，經(jīng)常采用（）工藝。

展現(xiàn)電路的邏輯電路連接的是哪種視圖模式?（）

版圖繪制時一般用哪個圖層來實現(xiàn)器件連接？（）

在制作MOS管時，采用LOCOS工藝容易出現(xiàn)（）。

在組合電路中，NMOS管串聯(lián)實現(xiàn)的是什么邏輯？（）

氧化層中摻雜了硼雜質，一般稱為（）。

光刻時，將掩模版直接放在晶圓表面，與表面的光刻膠接觸，該種光刻方式稱為（）。

STI技術相比LOCOS工藝，占地面積更小，而且不會產(chǎn)生鳥嘴效應。