A.(100)B.(111)C.(110)D.(211)
最新試題
多層陶瓷基板多層化的方法包括()。
如下哪個選項不是半導體器件制備過程中的主要污染物?()
注入損傷與注入離子的以下哪個參數(shù)無關?()
碳納米管場效應晶體管是未來晶體管發(fā)展趨勢之一。
厚膜電阻的成分,一是導體顆粒,二是()。
光刻工藝對準誤差包括()。
下面哪些元素屬于半徑較小的雜質(zhì)原子?()
三光檢查主要是檢查芯片粘貼和引線焊接之后有無各種廢品。
新的平坦化方法有哪幾個?()
濕氧氧化采用的氧化水溫是()。