光刻時(shí)，必須將硅片與掩模版進(jìn)行對準(zhǔn)，不同的掩模版之間也要對準(zhǔn)，可以采用仔細(xì)觀察的方法。

光刻時(shí)，將掩模版直接放在晶圓表面，與表面的光刻膠接觸，該種光刻方式稱為（）。

我們利用LOCOS技術(shù)制作MOS中的（）。

薄柵管ESD保護(hù)結(jié)構(gòu)的ESD保護(hù)能力通常為多少？（）

版圖繪制應(yīng)該在哪個(gè)視圖中進(jìn)行？（）

展現(xiàn)電路的邏輯電路連接的是哪種視圖模式?（）

關(guān)于電路的層次，自下向上順序正確的是（）。

集成電路的制造工藝，需要采用隔離技術(shù)，常見的隔離方法有（）。

CMOS制作時(shí)，常常用作鈍化層的材料是（）。

未進(jìn)行摻雜的二氧化硅薄膜，通常簡寫為（）。