單項選擇題對于0.25um及以下的隔離技術(shù)采用以下()方式。

A.局部氧化隔離
B.PN結(jié)隔離
C.PN結(jié)-介質(zhì)隔離
D.淺槽隔離


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1.單項選擇題WCVD工藝第一步是()。

A.浸潤
B.成核
C.BULK
D.直接反應(yīng)

2.單項選擇題Liner barrier阻擋金屬間擴散作用的金屬是()。

A.金屬Al
B.金屬鈦
C.金屬氮化鈦
D.金屬鎢

3.單項選擇題摻氯氧化使用的HCL是()。

A.液態(tài)源
B.固態(tài)源
C.氣態(tài)源

5.單項選擇題以下哪項不是STI工藝氣體?()

A.SiH4
B.O2
C.N2O
D.Ar