單項選擇題對于0.25um及以下的隔離技術(shù)采用以下()方式。
A.局部氧化隔離
B.PN結(jié)隔離
C.PN結(jié)-介質(zhì)隔離
D.淺槽隔離
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1.單項選擇題WCVD工藝第一步是()。
A.浸潤
B.成核
C.BULK
D.直接反應(yīng)
2.單項選擇題Liner barrier阻擋金屬間擴散作用的金屬是()。
A.金屬Al
B.金屬鈦
C.金屬氮化鈦
D.金屬鎢
3.單項選擇題摻氯氧化使用的HCL是()。
A.液態(tài)源
B.固態(tài)源
C.氣態(tài)源
4.單項選擇題二氧化硅中每個硅原子周圍有()個氧原子。
A.1
B.2
C.3
D.4
5.單項選擇題以下哪項不是STI工藝氣體?()
A.SiH4
B.O2
C.N2O
D.Ar
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塑封料的機械性能包括的模量有()。
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下面關(guān)于BGA的特點,說法錯誤的是()。
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