①圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠層 ②圖形從光刻膠層轉(zhuǎn)移到晶圓層
最新試題
鳥嘴效應造成的不良影響有()。
新的平坦化方法有哪幾個?()
化學機械拋光液的主要成分不包括的是哪個?()
三光檢查主要是檢查芯片粘貼和引線焊接之后有無各種廢品。
下面哪個選項不是集成電路工藝用化學氣體質(zhì)量的指標?()
摻雜后退火時間一般在()。
如下哪個選項不是半導體器件制備過程中的主要污染物?()
目前制備SOI材料的主流技術(shù)有幾種?()
光刻工藝的設備核心是()。
刻蝕過程中聚合物形成的來源有()。