薄柵管ESD保護結(jié)構(gòu)的ESD保護能力通常為多少？（）

為了后續(xù)連接方便，信號端一般用什么圖層引出?（）

源漏注入之后，必須進行（）工藝，修復(fù)晶格損傷，激活雜質(zhì)。

光刻時，將掩模版直接放在晶圓表面，與表面的光刻膠接觸，該種光刻方式稱為（）。

集成電路再分析軟件其處理的主要對象是（）。

反相器的版圖一般用到幾個pitch？（）

如果制作柵氧結(jié)構(gòu)，一般采用的方法是（）。

MOS晶體管的源區(qū)、漏區(qū)及源、漏之間的溝道區(qū)域通常稱為（）。

一個四輸入的或非門，一般采用幾個pitch？（）

在制作MOS管時，采用LOCOS工藝容易出現(xiàn)（）。