集成電路的制造工藝，需要采用隔離技術(shù)，常見的隔離方法有（）。

為了后續(xù)連接方便，信號端一般用什么圖層引出?（）

以下工藝中，方塊電阻是一個重要的參數(shù)，一般用于衡量（）工藝中雜質(zhì)情況。

CMOS電路是通過有源區(qū)進(jìn)行隔離的，屬于絕緣介質(zhì)隔離。

薄柵管ESD保護(hù)結(jié)構(gòu)的ESD保護(hù)能力通常為多少？（）

外延雙阱工藝的優(yōu)點包括（）。

MOS晶體管的源區(qū)、漏區(qū)及源、漏之間的溝道區(qū)域通常稱為（）。

集成電路版圖物理驗證必須要做的步驟主要有哪些？（）

摩爾定律中每一代集成電路上晶體管密度翻倍值是多少？（）

如果想在電路圖模式下編輯符號，可以選擇以下哪個命令？（）