注入損傷與注入離子的以下哪個參數(shù)無關？（）

碳納米管場效應晶體管是未來晶體管發(fā)展趨勢之一。

當許多損傷區(qū)連在一起時就會形成連續(xù)的非晶層，開始形成連續(xù)非晶層的注入劑量稱為（）。

新的平坦化方法有哪幾個？（）

金屬化中可選用的金屬材料有（）。

光刻工藝的設備核心是（）。

摻雜后退火時間一般在（）。

硅暴露在空氣中，在室溫下即可產生二氧化硅層，厚度約為（）。

影響封裝芯片特性的溫度有（）。

封裝工藝中，銀漿固化的溫度為（）。