改良西門(mén)子法的顯著特點(diǎn)不包括（）

只涉及到大約一個(gè)原子大小范圍的晶格缺陷是（）。 

在光線作用下，能使物體產(chǎn)生一定方向的電動(dòng)勢(shì)的現(xiàn)象稱（）

影響單晶內(nèi)雜質(zhì)數(shù)量及分布的主要因素是（）①原材料中雜質(zhì)的種類(lèi)和含量；②雜質(zhì)的分凝效應(yīng)；③雜質(zhì)的蒸發(fā)效應(yīng)；④生長(zhǎng)過(guò)程中坩堝或系統(tǒng)內(nèi)雜質(zhì)的沾污；⑤加入雜質(zhì)量；

下列是晶體的是（）。 

鑄造多晶硅中氫的主要作用包括（）

屬于晶體缺陷中面缺陷的是（）

載流子的擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生擴(kuò)散電流，漂移運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生（）電流。

鑄造多晶硅中的氧主要來(lái)源不包括（）

下列選項(xiàng)中，對(duì)從石英到單晶硅的工藝流程是（）