用四端器件繪制電路圖時(shí)，NMOS管和PMOS管的襯底連接正確的是（）。

摩爾定律中每一代集成電路上晶體管密度翻倍值是多少？（）

CMOS工藝中，將PMOS和NMOS的柵進(jìn)行局部互連的材料是（）。

MOS管版圖一般匹配原則有（）。

光刻時(shí)，將掩模版直接放在晶圓表面，與表面的光刻膠接觸，該種光刻方式稱為（）。

集成電路版圖物理驗(yàn)證必須要做的步驟主要有哪些？（）

以下工藝中，方塊電阻是一個(gè)重要的參數(shù)，一般用于衡量（）工藝中雜質(zhì)情況。

電源線和地線一般用什么圖層來畫？（）

未進(jìn)行摻雜的二氧化硅薄膜，通常簡寫為（）。

關(guān)于電路的層次，自下向上順序正確的是（）。