注入損傷與注入離子的以下哪個參數(shù)無關(guān)？（）

光刻工藝對準誤差包括（）。

濕氧氧化采用的氧化水溫是（）。

金屬化中可選用的金屬材料有（）。

CE定律發(fā)展面臨的問題包括（）。

新的平坦化方法有哪幾個？（）

CMP的設(shè)備構(gòu)成包括（）。

刻蝕工藝可以和以下哪個工藝結(jié)合來實現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移？（）

碳納米管場效應晶體管是未來晶體管發(fā)展趨勢之一。

化學機械拋光液的主要成分不包括的是哪個？（）