刻蝕過程中聚合物形成的來源有（）。

碳納米管場(chǎng)效應(yīng)晶體管是未來晶體管發(fā)展趨勢(shì)之一。

光刻工藝的設(shè)備核心是（）。

當(dāng)許多損傷區(qū)連在一起時(shí)就會(huì)形成連續(xù)的非晶層，開始形成連續(xù)非晶層的注入劑量稱為（）。

鳥嘴效應(yīng)造成的不良影響有（）。

新的平坦化方法有哪幾個(gè)？（）

摻雜后，退火的目的是（）。

注入損傷與注入離子的以下哪個(gè)參數(shù)無關(guān)？（）

光刻工藝對(duì)準(zhǔn)誤差包括（）。

CE定律發(fā)展面臨的問題包括（）。