問(wèn)答題光學(xué)光刻技術(shù)的改進(jìn)有哪些方面？
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1.問(wèn)答題為什么要進(jìn)行顯影后檢查？
2.問(wèn)答題解釋光刻膠選擇比，要求的比例是高還是低？
3.問(wèn)答題使用什么材料制作投影掩膜板，投影掩膜板上形成圖形的不透明材料是什么？
4.問(wèn)答題當(dāng)分辨率增加時(shí)焦深會(huì)發(fā)生什么變化？
5.問(wèn)答題寫(xiě)出計(jì)算焦深的公試。
最新試題
刻蝕工藝可以和以下哪個(gè)工藝結(jié)合來(lái)實(shí)現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移？（）
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
光刻工藝的特點(diǎn)包括（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
光刻工藝對(duì)準(zhǔn)誤差包括（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
鳥(niǎo)嘴效應(yīng)造成的不良影響有（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
新的平坦化方法有哪幾個(gè)？（）
題型：多項(xiàng)選擇題
下面哪些元素屬于半徑較小的雜質(zhì)原子？（）
題型：多項(xiàng)選擇題
CE定律發(fā)展面臨的問(wèn)題包括（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
硅暴露在空氣中，在室溫下即可產(chǎn)生二氧化硅層，厚度約為（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
進(jìn)行溝槽填充常用的金屬材料是（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
摻雜后退火時(shí)間一般在（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題