摻雜后退火時(shí)間一般在（）。

碳納米管場(chǎng)效應(yīng)晶體管是未來(lái)晶體管發(fā)展趨勢(shì)之一。

新的平坦化方法有哪幾個(gè)？（）

進(jìn)行溝槽填充常用的金屬材料是（）。

當(dāng)許多損傷區(qū)連在一起時(shí)就會(huì)形成連續(xù)的非晶層，開(kāi)始形成連續(xù)非晶層的注入劑量稱為（）。

注入損傷與注入離子的以下哪個(gè)參數(shù)無(wú)關(guān)？（）

濕氧氧化采用的氧化水溫是（）。

常壓的硅外延方法有（）。

下面哪個(gè)選項(xiàng)不是集成電路工藝用化學(xué)氣體質(zhì)量的指標(biāo)？（）

鳥(niǎo)嘴效應(yīng)造成的不良影響有（）。