問答題一塊電阻率為3Ω·cm的N-Si樣品,空穴的壽命為τp=5μs,在其平面型的表面處有穩(wěn)定的空穴注入,過甚空穴濃度為Δp(0)=1014cm-3,計(jì)算從這個(gè)表面擴(kuò)散進(jìn)入半導(dǎo)體內(nèi)部的空穴電流密度。在離表面多遠(yuǎn)處過??昭舛人p到1012cm-3。
您可能感興趣的試卷
最新試題
消除鳥嘴效應(yīng)的方法有()。
題型:多項(xiàng)選擇題
化學(xué)機(jī)械拋光液的主要成分不包括的是哪個(gè)?()
題型:單項(xiàng)選擇題
新的平坦化方法有哪幾個(gè)?()
題型:多項(xiàng)選擇題
刻蝕過程中聚合物形成的來源有()。
題型:多項(xiàng)選擇題
如下哪個(gè)選項(xiàng)不是半導(dǎo)體器件制備過程中的主要污染物?()
題型:單項(xiàng)選擇題
光刻工藝對準(zhǔn)誤差包括()。
題型:多項(xiàng)選擇題
進(jìn)行溝槽填充常用的金屬材料是()。
題型:單項(xiàng)選擇題
金屬化中可選用的金屬材料有()。
題型:多項(xiàng)選擇題
芯片粘接的工藝過程包括()。
題型:多項(xiàng)選擇題
當(dāng)許多損傷區(qū)連在一起時(shí)就會形成連續(xù)的非晶層,開始形成連續(xù)非晶層的注入劑量稱為()。
題型:單項(xiàng)選擇題