單項(xiàng)選擇題光刻要求晶圓片表面存在的圖案與掩膜版上的圖形對(duì)準(zhǔn),此特性指標(biāo)稱為()。

A.套準(zhǔn)精度
B.特征尺寸
C.分辨率
D.工藝寬容度


您可能感興趣的試卷

你可能感興趣的試題

1.單項(xiàng)選擇題

晶圓加工的基本流程順序?yàn)椋ǎ?br/>(1)切片
(2)外形整理
(3)研磨
(4)倒角
(5)清洗
(6)拋光

A.(1)(2)(3)(4)(5)(6)
B.(2)(1)(4)(3)(6)(5)
C.(1)(2)(4)(3)(5)(6)
D.(2)(1)(3)(4)(6)(5)

2.單項(xiàng)選擇題下面哪種方式也稱為濕法去膠?()

A.等離子去膠
B.溶劑去膠
C.氧化去膠
D.三氯乙烯去膠

3.單項(xiàng)選擇題

下圖屬于什么光刻機(jī)?()

A.接觸式光刻機(jī)
B.步進(jìn)掃描光刻機(jī)
C.分布重復(fù)光刻機(jī)
D.接近式光刻機(jī)

4.單項(xiàng)選擇題對(duì)于0.25um及以下的隔離技術(shù)采用以下()方式。

A.局部氧化隔離
B.PN結(jié)隔離
C.PN結(jié)-介質(zhì)隔離
D.淺槽隔離

5.單項(xiàng)選擇題WCVD工藝第一步是()。

A.浸潤
B.成核
C.BULK
D.直接反應(yīng)