源漏注入之后，必須進(jìn)行（）工藝，修復(fù)晶格損傷，激活雜質(zhì)。

為了后續(xù)連接方便，信號(hào)端一般用什么圖層引出?（）

用四端器件繪制電路圖時(shí)，NMOS管和PMOS管的襯底連接正確的是（）。

MOS結(jié)構(gòu)指的是金屬氧化物半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)稱。

如果制作柵氧結(jié)構(gòu)，一般采用的方法是（）。

在組合電路中，NMOS管串聯(lián)實(shí)現(xiàn)的是什么邏輯？（）

MOS晶體管的源區(qū)、漏區(qū)及源、漏之間的溝道區(qū)域通常稱為（）。

集成電路再分析軟件其處理的主要對(duì)象是（）。

在制作MOS管時(shí)，采用LOCOS工藝容易出現(xiàn)（）。

我們利用LOCOS技術(shù)制作MOS中的（）。