判斷題CMOS制作時(shí)，源、漏、柵等結(jié)構(gòu)都做在場(chǎng)氧化區(qū)。
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在制作MOS管時(shí)，采用LOCOS工藝容易出現(xiàn)（）。
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氧化層中摻雜了硼雜質(zhì)，一般稱為（）。
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版圖繪制應(yīng)該在哪個(gè)視圖中進(jìn)行？（）
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一個(gè)四輸入的或非門，一般采用幾個(gè)pitch？（）
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