鳥嘴效應造成的不良影響有（）。

互連工藝中AL的制備可選用（）。

光刻工藝的設備核心是（）。

注入損傷與注入離子的以下哪個參數(shù)無關？（）

新的平坦化方法有哪幾個？（）

硅暴露在空氣中，在室溫下即可產(chǎn)生二氧化硅層，厚度約為（）。

IC集成度和性能得以不斷提高的理論基礎是（）。

封裝工藝中，銀漿固化的溫度為（）。

消除鳥嘴效應的方法有（）。

刻蝕過程中聚合物形成的來源有（）。