問答題FET的兩種基本類型是什么，他們之間的主要區(qū)別是什么？
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光刻工藝的設備核心是（）。
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目前制備SOI材料的主流技術(shù)有幾種？（）
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摻雜后，退火的目的是（）。
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消除鳥嘴效應的方法有（）。
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常壓的硅外延方法有（）。
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光刻工藝的特點包括（）。
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