CMOS工藝中，將PMOS和NMOS的柵進(jìn)行局部互連的材料是（）。

電源線和地線一般用什么圖層來畫？（）

集成電路再分析軟件其處理的主要對象是（）。

一個(gè)四輸入的或非門，一般采用幾個(gè)pitch？（）

MOS晶體管的源區(qū)、漏區(qū)及源、漏之間的溝道區(qū)域通常稱為（）。

光刻時(shí)，必須將硅片與掩模版進(jìn)行對準(zhǔn)，不同的掩模版之間也要對準(zhǔn)，可以采用仔細(xì)觀察的方法。

無論是施加正偏壓還是反偏壓，MOS電容都是一種線性電容。

版圖繪制應(yīng)該在哪個(gè)視圖中進(jìn)行？（）

顯影后，被曝光區(qū)域的光刻膠被去除，該種光刻膠稱為（）。

未進(jìn)行摻雜的二氧化硅薄膜，通常簡寫為（）。