半導(dǎo)體集成電路章節(jié)練習(xí)(2020.04.11)
來(lái)源:考試資料網(wǎng)1.問(wèn)答題簡(jiǎn)述sram,flash memory及dram的區(qū)別?
參考答案:sram:靜態(tài)隨機(jī)存儲(chǔ)器,存取速度快,但容量小,掉電后數(shù)據(jù)會(huì)丟失,制造成本較高,通常用來(lái)作為快取(CACHE)&ensp...
2.問(wèn)答題在STI的刻蝕工藝過(guò)程中,要注意哪些工藝參數(shù)?
參考答案:熱氧化過(guò)程中,氧化層的增厚包括三個(gè)過(guò)程:氧化劑從氣體內(nèi)部以擴(kuò)散形式輸運(yùn)到氣體—氧化層界面:氧化劑穿過(guò)滯流層到...
5.問(wèn)答題Defect的種類依掉落位置區(qū)分可分為哪些?
6.問(wèn)答題簡(jiǎn)述SCT的工作特點(diǎn)?
參考答案:III-V族化合物:砷化鎵(GaAs)鍺硅(SiGe),主要用于高速高頻領(lǐng)域;
II-VI族化合物:碲化鎘(C...
II-VI族化合物:碲化鎘(C...
參考答案:形成歐姆接觸電極,但在外延層淀積引出處進(jìn)行高濃度的重?fù)诫s,且穿透外延層和埋層相連,即使集電極歐姆接觸為深摻雜的n型接觸。...
10.問(wèn)答題什么是Rc? Rc代表什么意義?
參考答案:接觸窗電阻,具體指金屬和半導(dǎo)體(contact)或金屬和金屬(via),在相接觸時(shí)在節(jié)處所形成的電阻,一般要求此電阻越小...