集成電路技術(shù)綜合練習(xí)章節(jié)練習(xí)(2019.04.27)
來源：考試資料網(wǎng)1.問答題為什么基區(qū)薄層電阻需要修正？
參考答案：基區(qū)薄層電阻擴(kuò)散完成后，還有多道高溫處理工序，所以雜質(zhì)會進(jìn)一步往里邊推，同時表面的硅會進(jìn)一步氧化。形成管子后，實際電阻比...
參考答案：
PMOS、NMOS、COMS、BiCMOS
溝道載流子特性、柵極材料、金屬層數(shù)、特征尺寸工藝可以實現(xiàn)的平面結(jié)構(gòu)的最小尺寸
4.問答題什么是材料系統(tǒng)？
參考答案：
由一些基本材料，如在Si，GaAs或InP制成的襯底上或襯底內(nèi)，用其它物質(zhì)再生成一層或幾層材料。
參考答案：因為氧化層中如含有高濃度的鈉，則線性和拋物型氧化速率常數(shù)明顯變大。措施有：加強(qiáng)工藝衛(wèi)生方可以避免Na+沾污；也可采用摻氯...
參考答案：
半導(dǎo)體與絕緣體相結(jié)合的材料系統(tǒng)
8.問答題版圖與掩模有什么關(guān)系？
參考答案：
制造廠家根據(jù)版圖的這些信息來制造掩膜
參考答案：
包括微帶（Micro-strip）和共面波導(dǎo)（CPW，CoplaneWaveGuidE.型的傳輸線。
參考答案：采用晶體管進(jìn)行適當(dāng)?shù)倪B接并使其工作在一定的狀態(tài)，利用它的直流導(dǎo)通電阻和交流電阻作為電路中的電阻元件使用
雙極性...
雙極性...
