微電子學(xué)章節(jié)練習(xí)(2020.01.28)

來源：考試資料網(wǎng)

1.填空題所謂（），是指幅度隨時間連續(xù)變化的信號。

2.名詞解釋平均投影射程RP

參考答案：平均投影射程就是射程的平均值，也就是離子注入深度的平均值

3.填空題當(dāng)對PN結(jié)外加反向電壓時，其勢壘區(qū)寬度會（），勢壘區(qū)的勢壘高度會（）。

參考答案：增大；提高

4.問答題簡述淀積膜的過程的三種不同階段

（1）晶核形成，成束的穩(wěn)定小晶核形成
（2）聚集成束，也稱為島生長
（3）形成連續(xù)的膜

5.問答題在SiO₂系統(tǒng)中存在哪幾種電荷？他們對器件性能有些什么影響？工藝上如何降低他們的密度？

6.問答題試述器件模擬和工藝模擬的基本概念。

參考答案：器件模擬概念：給定器件結(jié)構(gòu)和摻雜分布，采用數(shù)值方法直接求解器件的基本方程，得到直流（DC）、交流（AC）、瞬態(tài)特性和某些...

7.名詞解釋PSM移相掩膜

參考答案：相移掩膜上的電介質(zhì)層在光刻版上開口部分以間隔的方式形成相移圖形，通過沒有相移涂敷開口部分的光線，會與通過有相移涂敷開口的...

8.問答題簡述微電子工藝的特點(diǎn)

參考答案：①高技術(shù)含量：設(shè)備先進(jìn)、技術(shù)先進(jìn)
②高精度：光刻圖形的最小線條尺寸在亞微米量級，制備的介質(zhì)薄膜厚度也在納米量級...

9.填空題為了降低臺階高度對金屬互連線的影響，在沉積金屬層前必須對圓片平坦化。平坦化的方法主要有（）和（）。沉積的回流介質(zhì)主要有：（）

參考答案：回流；化學(xué)機(jī)械拋光；硼硅玻璃（BSG）、磷硅玻璃（PSG）和硼磷硅玻璃（BPSG）

10.問答題什么是駐波效應(yīng)？如何減小駐波效應(yīng)

參考答案：駐波效應(yīng)：當(dāng)曝光的光纖從光刻膠與襯底的界面反射時，會與入射的曝光光線產(chǎn)生干涉，會使曝光過度和不足的區(qū)域形成條紋狀結(jié)構(gòu)。<...