微電子學(xué)章節(jié)練習(xí)(2020.04.19)

來源：考試資料網(wǎng)
參考答案：（1）IC制造中所有圖形化刻蝕均為等離子體刻蝕或干法刻蝕。
（2）應(yīng)用于電介質(zhì)積淀。
（3）離子注入...
參考答案：

機(jī)理：等離子體由中性原子團(tuán)、游離基、分子、離子、少量高能電子組成。
優(yōu)勢(shì)：可以較低溫度下淀積薄膜，常是低溫與低壓結(jié)合

參考答案：芯片的關(guān)鍵尺寸（CD）是指硅片上的最小特征尺寸；
因?yàn)槲覀儗D作為定義制造復(fù)雜性水平的標(biāo)準(zhǔn)，也就是如果你擁有...
參考答案：二極管特性；金屬功函數(shù)和半導(dǎo)體表面功函數(shù)；線性；歐姆接觸；1020/cm3
參考答案：①定義：在單晶襯底上新生一層單晶膜的技術(shù)。
以氣相外延為例，則是含外延層材料的物質(zhì)以氣相形式流向襯底，在高溫下...