微電子學(xué)章節(jié)練習(xí)(2019.12.02)
來源:考試資料網(wǎng)參考答案:焦深減小
5.問答題給出硅片制造中光刻膠的兩種目的。
參考答案:
1.將掩膜版圖案轉(zhuǎn)移到硅片表面頂層的光刻膠中。
2.在后續(xù)工藝中保護下面的材料。
參考答案:500Ω;20Ω;600μm
參考答案:降低注入離子能量;分子離子注入;快速熱退火;P;n;BF2+離子替代B+注入;降低B+注入能量;硅注入表面預(yù)非晶化