集成電路工藝原理名詞解釋每日一練(2020.04.29)

通過光化學(xué)反應(yīng)，將光刻板上的圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠上。

通過使用特定的溶液與需要被腐蝕的薄膜材料進行化學(xué)反應(yīng)，進而除去沒有被光刻膠覆蓋區(qū)域的薄膜。

是升高溫度的情況下給摻雜氧化硅加熱，使它發(fā)生流動。

氧氣中攜帶一定量的水汽，Si在其中被氧化成SiO₂的過程。

又稱光致抗蝕劑，由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液體。