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集成電路工藝原理判斷題每日一練(2020.06.02)

來源：考試資料網(wǎng)

1.判斷題離子注入是唯一能夠精確控制摻雜的手段。

參考答案：對

2.判斷題離子注入中靜電掃描的主要缺點是離子束不能垂直轟擊硅片，會導(dǎo)致光刻材料的陰影效應(yīng)，阻礙離子束的注入。

參考答案：對

3.判斷題高密度等離子體刻蝕機是為亞0.25微米圖形尺寸而開發(fā)的最重要的干法刻蝕系統(tǒng)。

參考答案：對

4.判斷題沒有CMP，就不可能生產(chǎn)甚大規(guī)模集成電路芯片。

參考答案：錯

5.判斷題刻蝕速率通常正比于刻蝕劑的濃度。

參考答案：對

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